无锡凡华半导体科技有限公司2025-02-05
主要用于晶圆清洗后的干燥环节。在光刻、蚀刻、离子注入等工艺前,都需要先对清洗后的晶圆进行干燥处理,去除表面残留液体,防止其对后续工艺造成负面影响,如影响光刻胶的均匀涂布、导致蚀刻不均匀等 。
本回答由 无锡凡华半导体科技有限公司 提供